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项目名称	4英寸低温背景离子刻蚀机	项目编号	20260262
公告时间	2026/11/15 11:00	报价截止时间	2026/11/18 11:00
联系人	成交后在我参与的项目中查看	联系手机	成交后在我参与的项目中查看
采购预算	￥385,000.00
采购单位	同济大学
送货期限	合同生效之日起180日内
送货地址	上海市杨浦区赤峰路67号同济大学南校区第一实验楼510
付款方式	货到验收合格付全款

货物名称	数量	品牌	型号	预算总价（元）	质保期
4英寸低温背景离子刻蚀机	1	不限定品牌	不限定型号	385000	1年
技术参数要求	直流考夫曼型离子源：氩离子束物理刻蚀，4吋范围刻蚀不均匀性在5%以内，束压0-1000V束流0-100mA。卧式刻蚀无油真空系统：系统极限真空8×10-5Pa，大气至本地5×10-4Pa时间小于40分钟，工质氩气质量流量计控制。水冷旋转可变角度复合工件台：旋转速度可调，角度可变。背景温度-20～25℃。操作模式：手动+自动
售后服务	期内免费维修，2小时响应、48小时到场；期外终身维修、优惠配件、终身免费工装夹具加工。